[发明专利]光学膜、溅射靶以及光学膜的成膜方法在审
| 申请号： | 202080056223.3 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN114207180A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 大上秀晴 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54;C23C14/08;G02B1/10 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈曦;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 溅射 以及 方法 | ||
1.一种光学膜，其为在可见光波长区域具有透过性、在近红外波长区域具有吸收性且具有电波透过性的光学膜，其特征在于，
所述光学膜含有铯、钨以及氧，按每50nm划分300nm～1700nm的波长区域而确定的各波长即300nm、350nm、400nm、450nm、……1700nm的折射率n和消光系数k分别设定为表7的数值范围内，
表7
波长(nm) 折射率 消光系数 300 2.2～3.2 0.6～1.6 350 2.1～3.1 0.0～0.8 400 1.8～2.8 0.0～0.6 450 1.6～2.6 0.0～0.6 500 1.4～2.4 0.0～0.6 550 1.1～2.1 0.0～0.6 600 0.8～1.8 0.0～0.7 650 0.6～1.6 0.1～1.1 700 0.7～1.7 0.5～1.5 750 0.9～1.9 0.6～1.6 800 1.1～2.1 0.5～1.5 850 1.0～2.0 0.4～1.4 900 0.8～1.8 0.4～1.4 950 0.6～1.6 0.4～1.4 1000 0.4～1.4 0.6～1.6 1050 0.3～1.3 0.8～1.8 1100 0.3～1.3 1.1～2.1 1150 0.2～1.2 1.3～2.3 1200 0.3～1.3 1.4～2.4 1250 0.3～1.3 1.6～2.6 1300 0.3～1.3 1.8～2.8 1350 0.3～1.3 1.9～2.9 1400 0.3～1.3 2.1～3.1 1450 0.3～1.3 2.2～3.2 1500 0.3～1.3 2.4～3.4 1550 0.4～1.4 2.5～3.5 1600 0.4～1.4 2.6～3.6 1650 0.4～1.4 2.8～3.8 1700 0.5～1.5 2.9～3.9
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