[发明专利]靠近焦平面的窗口遮挡成像器在审
| 申请号： | 202080056006.4 | 申请日： | 2020-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN114270210A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | R.谢帕德;P-Y.德罗兹;M.拉斯特;B.雷米希 | 申请（专利权）人： | 伟摩有限责任公司 |
| 主分类号： | G01S7/481 | 分类号： | G01S7/481;G01S17/48;G01S17/931 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金玉洁 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及光学系统及其操作方法。示例光学系统包括光学部件和被配置为发射光信号的一个或多个光源。光信号与光学部件相互作用以提供相互作用光信号。光学系统还包括检测器，其被配置为检测相互作用光信号的至少一部分作为检测到的光信号。光学系统附加地包括控制器，其被配置为执行操作，包括使一个或多个光源发射光信号和从检测器接收检测到的光信号。操作还包括基于检测到的光信号确定一个或多个缺陷与光学部件关联。 | ||
| 搜索关键词： | 靠近 平面 窗口 遮挡 成像 | ||
【主权项】：
暂无信息
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