[发明专利]靠近焦平面的窗口遮挡成像器在审
| 申请号: | 202080056006.4 | 申请日: | 2020-07-20 |
| 公开(公告)号: | CN114270210A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
| 发明(设计)人: | R.谢帕德;P-Y.德罗兹;M.拉斯特;B.雷米希 | 申请(专利权)人: | 伟摩有限责任公司 |
| 主分类号: | G01S7/481 | 分类号: | G01S7/481;G01S17/48;G01S17/931 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 金玉洁 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 靠近 平面 窗口 遮挡 成像 | ||
1.一种光学系统,包括:
光学部件;
一个或多个光源,被配置为发射光信号,其中,所述光信号与所述光学部件相互作用以提供相互作用光信号;和
检测器,被配置为检测所述相互作用光信号的至少一部分作为检测到的光信号;和
控制器,包括至少一个处理器和至少一个存储器,其中,所述至少一个处理器执行存储在所述至少一个存储器中的指令以执行操作,所述操作包括:
使所述一个或多个光源发射光信号;和
基于来自所述检测器的检测到的光信号确定一个或多个缺陷与所述光学部件关联。
2.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学系统还包括:
光轴;
限定焦平面的沿着所述光轴的焦距;和
沿着所述焦平面布置的图像传感器,其中,所述检测器沿着所述焦平面布置。
3.根据权利要求2所述的光学系统,其中,所述图像传感器包括多个光电检测器元件,其中,所述检测器包括所述光电检测器元件的至少一部分。
4.根据权利要求2所述的光学系统,其中,所述检测器被布置成沿着光检测轴检测检测到的光信号,其中,所述光检测轴相对于所述光轴离轴至少5度。
5.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述一个或多个光源包括发光二极管(LED)、激光器、LED阵列或激光器阵列。
6.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述光信号以使得所述光信号经由全内反射在所述光学部件内被反射的角度被引导到所述光学部件中。
7.根据权利要求6所述的光学系统,其中,所述一个或多个光源被定为在所述光学部件的第一端附近,并且其中,所述光信号经由所述第一端耦合到所述光学部件中。
8.根据权利要求7所述的光学系统,其中,所述检测器被定位在所述光学部件的第二端处,其中,所述第二端与所述第一端相对。
9.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述一个或多个光源至少部分地嵌入在所述光学部件内。
10.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件包括外部光学窗口,其中,所述外部光学窗口具有弯曲形状。
11.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述检测器包括以下中至少一种:电荷耦合器件(CCD)、CCD的一部分、相机的图像传感器或相机的图像传感器的一部分。
12.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述检测器包括硅光电倍增管(SiPM)、雪崩光电二极管(APD)、单光子雪崩检测器(SPAD)、低温检测器、光电二极管或光电晶体管。
13.根据权利要求1所述的光学系统,还包括光学耦合到所述检测器的第一区域的第一滤光器和光学耦合到所述检测器的第二区域的第二滤光器,其中,所述第一滤光器和所述第二滤光器选择不同的波长范围,其中,所述第一滤光器选择的波长范围包括所述光信号的波长,其中,所述第二滤光器选择的波长范围不包括所述光信号的波长,并且其中,所述操作还包括:
将所述检测器的第一区域提供的第一图像部分与所述检测器的第二区域提供的第二图像部分进行比较;和
基于比较确定一个或多个缺陷中的至少一个的缺陷类型。
14.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述光信号的波长与有机荧光化合物的激发波长对应,其中,所述检测器包括滤光器,所述滤光器使所述有机荧光化合物的发射波长通过,并且而阻挡所述有机荧光化合物的激发波长,其中,所述检测到的光信号的至少一部分包括所述发射波长,并且其中,所述操作还包括:
基于检测到的光信号确定一种或多种有机荧光化合物存在于所述光学部件的表面上。
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