[发明专利]用于平板光学器件制造的光刻胶负载方案在审
| 申请号： | 202080040885.1 | 申请日： | 2020-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113906350A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 赛捷·托克·加勒特·多莎;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢多维克·戈代;陈建安;平克什·罗希特·沙阿 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式涉及制造光学装置的方法。此方法的一个实施方式包括在基板的表面上设置结构材料层和在结构材料层上方设置图案化光刻胶。图案化光刻胶具有至少一个装置部分与至少一个辅助部分。各装置部分与各辅助部分暴露结构材料层的未掩蔽部分。对应于各装置部分与各辅助部分的结构材料层的未掩蔽部分被蚀刻。蚀刻未掩蔽部分形成具有装置结构与至少一个辅助区的至少一个光学装置，该装置结构对应于至少一个装置部分的未掩蔽部分，该至少一个辅助区具有对应于至少一个辅助部分的未掩蔽部分的辅助结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 平板 光学 器件 制造 光刻 负载 方案 | ||
【主权项】：
暂无信息
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