[发明专利]用于平板光学器件制造的光刻胶负载方案

说明书

本公开内容的实施方式涉及制造光学装置的方法。此方法的一个实施方式包括在基板的表面上设置结构材料层和在结构材料层上方设置图案化光刻胶。图案化光刻胶具有至少一个装置部分与至少一个辅助部分。各装置部分与各辅助部分暴露结构材料层的未掩蔽部分。对应于各装置部分与各辅助部分的结构材料层的未掩蔽部分被蚀刻。蚀刻未掩蔽部分形成具有装置结构与至少一个辅助区的至少一个光学装置，该装置结构对应于至少一个装置部分的未掩蔽部分，该至少一个辅助区具有对应于至少一个辅助部分的未掩蔽部分的辅助结构。

背景

领域

本公开内容的实施方式总体涉及光学装置。更具体地，本文所述的实施方式提供一个或多个光学装置的制造。

相关技术的说明

光学装置可用以操纵光的传播。光学装置的一个实例是平板(flat)光学装置。可见光与近红外线光谱中的平板光学装置会需要透明基板，该基板具在设置在基板上的诸如纳米结构之类的结构。然而，作为新兴技术，处理透明基板以形成光学装置既复杂又具挑战性。例如，在相邻光学装置之间和在光学装置与基板的周边之间的区域中大面积的结构材料可被蚀刻掉，使得光学装置只被基板的表面围绕。只由基板的表面围绕光学装置造成不能够确定蚀刻工艺的终点，这会造成结构的不期望临界尺寸。

因此，本领域需要的是制造光学装置的改良方法。

概述

在一个实施方式中，提供一种方法。此方法包括在基板的表面上设置结构材料层与在结构材料层上方设置图案化光刻胶。图案化光刻胶具有至少一个装置部分与至少一个辅助部分。各装置部分与各辅助部分暴露结构材料层的未掩蔽部分。对应于各装置部分与各辅助部分的结构材料层的未掩蔽部分被蚀刻。蚀刻未掩蔽部分形成具有装置结构与至少一个辅助区的至少一个光学装置，该装置结构对应于至少一个装置部分的未掩蔽部分，该至少一个辅助区具有对应于至少一个辅助部分的未掩蔽部分的辅助结构。

在另一实施方式中，提供一种方法。此方法包括在基板的表面上设置结构材料层与在结构材料层上方设置图案化光刻胶。图案化光刻胶具有至少一个装置部分、至少一个辅助部分、和至少一个中间部分，至少一个装置部分暴露结构材料层的未掩蔽装置部分，至少一个辅助部分掩蔽基板的至少一个辅助区，辅助区通过要形成的中间区与基板的周边而限定，而至少一中间部分暴露处于各装置部分与各辅助部分之间的结构材料层的未掩蔽中间部分。对应于各装置部分与各中间部分的结构材料层的未掩蔽装置部分与未掩蔽中间部分被蚀刻。蚀刻未掩蔽装置部分与未掩蔽中间部分形成具有装置结构与至少一个中间区的至少一个光学装置，装置结构对应于至少一个装置部分的未掩蔽部分，至少一个中间区在各光学装置与各辅助区之间并且暴露基板的表面。辅助区被各辅助部分掩蔽。

在又一实施方式中，提供一种方法。此方法包括在基板的表面上设置结构材料层与在结构材料层上方设置图案化光刻胶。图案化光刻胶具有至少一个装置部分与至少一个辅助部分，至少一个装置部分暴露结构材料层的未掩蔽装置部分，至少一个辅助部分掩蔽基板的至少一个辅助区。辅助区通过要形成的中间区与基板的周边而限定，而至少一个中间部分暴露处于各装置部分与各辅助部分之间的结构材料层的未掩蔽中间部分。各装置部分与各辅助部分之间的未掩蔽距离是变化的。对应于各装置部分与各中间部分的结构材料层的未掩蔽装置部分与未掩蔽中间部分被蚀刻。蚀刻未掩蔽装置部分与未掩蔽中间部分形成具有装置结构与至少一个中间区的至少一个光学装置，装置结构对应于至少一个装置部分的未掩蔽部分，至少一个中间区在各光学装置与各辅助区之间并且暴露基板的表面。辅助区被各辅助部分掩蔽，而各中间区与各辅助部分之间的暴露距离是变化的。

附图简要说明