[发明专利]用于DAX成像的全视场散射估计有效
| 申请号： | 202080014912.8 | 申请日： | 2020-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN113453623B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | S·P·普雷弗尔哈尔;T·克勒;K·J·恩格尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种被配置用于相衬成像和/或暗场成像的X射线成像系统(XI)。所述系统包括：X射线源(XS)，其能操作用于使X辐射从所述源(XS)的焦斑(SF)发出；以及X射线敏感探测器(D)，其能操作用于：如果在所述X射线源与所述探测器(D)之间存在要被成像的对象，则在所述X辐射与所述对象发生相互作用之后探测所述X辐射。控制逻辑单元(CL)能操作用于使所述X射线成像装置在两种模式中的任意一种模式中操作，所述两种模式是对象图像采集模式和散射测量模式。当在散射测量模式中时在所述探测器处能接收到的所述X辐射与当所述系统在对象图像采集模式中时能接收到的X辐射相比包括更高比例的散射辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 dax 成像 视场 散射 估计 | ||
【主权项】：
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