[发明专利]用于DAX成像的全视场散射估计

权利要求书

1.一种被配置用于相衬成像和/或暗场成像的X射线成像系统(XI)，包括：

X射线源(XS)，其能操作用于使X辐射从所述源(XS)的焦斑发出；

X射线敏感探测器(D)，其能操作用于：如果在所述X射线源与所述探测器(D)之间存在要被成像的对象，则在所述X辐射与所述对象发生相互作用之后探测所述X辐射；

控制逻辑单元(CL)，其能操作用于使所述X射线成像系统在两种模式中的任意一种模式中操作，所述两种模式是对象图像采集模式和散射测量模式，其中，当在散射测量模式中时在所述探测器处能接收到的所述X辐射与当所述X射线成像系统在对象图像采集模式中时能接收到的X辐射相比包括更高比例的散射辐射；以及

散射校正器(SC)，其能操作用于基于所测量的散射数据来减少或者促进减少或者防止能根据在对象图像采集模式中采集的数据生成的对象图像中的散射伪影。

2.根据权利要求1所述的X射线成像系统，包括被布置在所述X射线源与所述探测器(D)之间的散射测量促进器(SMF)，所述散射测量促进器(SMF)的至少一个或多个部分能够阻挡X辐射，当所述X射线成像系统在散射测量模式中时，所述控制逻辑单元使所述散射测量促进器的姿态相对于当所述X射线成像系统在对象图像采集模式中时所述散射测量促进器的姿态发生变化，使得所述至少一个或多个部分阻挡所述X辐射中的至少一些X辐射。

3.根据权利要求2所述的X射线成像系统，其中，所述散射测量促进器(SMF)包括以下各项中的任意一项或多项：i)抗散射网格(ASG)，ii)干涉仪(G0、G1、G2)的至少部分，iii)编码孔径板。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线成像系统，其中，所述X辐射的方向能通过源接口(SF)发生改变，其中，当所述X射线成像系统在对象图像采集模式中时，所述控制逻辑单元(CL)通过所述源接口(SF)使X辐射沿着第一方向发出，而当所述X射线成像系统在散射测量模式中时，所述控制逻辑单元通过所述源接口使所述X辐射沿着不同于所述第一方向的第二方向发出。

5.根据权利要求3所述的X射线成像系统，其中，当所述散射测量促进器(SMF)包括所述干涉仪(G0、G1、G2)的至少部分时，当在散射测量模式中时，所述控制逻辑单元(CL)使所述干涉仪或所述干涉仪的所述部分的姿态发生变化，以便减少在所述探测器处能探测到的条纹图案。

6.根据权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统，其中，所述X射线成像系统是全视图成像系统。

7.一种被配置用于相衬成像和/或暗场成像的X射线成像方法，包括以下步骤：

使(S210)被配置用于相衬成像和/或暗场成像的X射线成像系统(XI)在两种模式中的任意一种模式中操作，所述两种模式是对象图像采集模式和散射测量模式，其中，当在散射测量模式中时在所述X射线成像系统(XI)的探测器(D)处能接收到的X辐射与当所述X射线成像系统在对象图像采集模式中时能接收到的X辐射相比包括更高比例的散射辐射；并且

基于所测量的散射数据来减少(S220)或者促进减少或者防止能根据在对象图像采集模式中采集的数据生成的对象图像中的散射伪影。

8.一种计算机可读介质，存储计算机程序，当由至少一个处理单元(PU)运行时，所述计算机程序适于使所述处理单元(PU)执行根据权利要求7所述的方法。