[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 202080007249.9 | 申请日： | 2020-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN113302332B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 关根元气;中尾裕利 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 袁波;刘继富 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及稳定的蒸镀速度的控制。本发明的成膜装置具有真空容器、成膜源、收容容器、膜厚传感器以及膜厚控制器。所述成膜源收容在所述真空容器。所述收容容器收容在所述真空容器，能够维持比所述真空容器内的压力高的压力。所述膜厚传感器包含具有共振频率的振荡器，在所述膜厚传感器中，在所述振荡器堆积由从所述成膜源释放的成膜材料。所述膜厚控制器收容在所述收容容器，基于所述成膜材料的堆积引起的所述振荡频率的变化，计算从所述成膜源释放的所述成膜材料的释放量。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科，未经株式会社爱发科许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080007249.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有可封闭腔的气溶胶生成装置
- 下一篇：半导体装置的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
