[实用新型]一种半导体设备的清洁装置有效
| 申请号： | 202022972896.3 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN214555642U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 杨勇;杨洪涛 | 申请（专利权）人： | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B1/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 林凡燕 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体设备的清洁装置，其包括并排设置的多个清洁仓，每个所述清洁仓包括：设置在所述清洁仓的一侧的仓壁上的第一滑轨；垂直于所述仓壁且滑动安装在所述第一滑轨上的托盘，以允许所述托盘沿所述第一滑轨的延伸方向移动；设置在所述托盘的承载面的一侧的清洁单元，所述清洁单元的工作端是朝向远离所述仓壁的一侧，所述清洁单元滑动安装在所述第一滑轨上，且允许所述清洁单元沿所述第一滑轨的延伸方向移动；以及与所述清洁仓连接的供应装置、回收装置以及控制装置。通过本实用新型提供的一种半导体设备的清洁装置，可改善清洁效果，提高清洁效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体设备 清洁 装置 | ||
【主权项】：
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