[实用新型]一种半导体设备的清洁装置

说明书

本实用新型公开了一种半导体设备的清洁装置，其包括并排设置的多个清洁仓，每个所述清洁仓包括：设置在所述清洁仓的一侧的仓壁上的第一滑轨；垂直于所述仓壁且滑动安装在所述第一滑轨上的托盘，以允许所述托盘沿所述第一滑轨的延伸方向移动；设置在所述托盘的承载面的一侧的清洁单元，所述清洁单元的工作端是朝向远离所述仓壁的一侧，所述清洁单元滑动安装在所述第一滑轨上，且允许所述清洁单元沿所述第一滑轨的延伸方向移动；以及与所述清洁仓连接的供应装置、回收装置以及控制装置。通过本实用新型提供的一种半导体设备的清洁装置，可改善清洁效果，提高清洁效率。

技术领域

本实用新型属于半导体设备领域，特别涉及一种半导体设备的清洁装置。

背景技术

在集成电路的生产制造中，每个检修室的热盘数量超过20个，现需要人工清洁热盘。在人工清洁热盘的过程中，会因为个人清洁手法差异导致热盘的清洁效果不同，且在人工清洁热盘的过程中，不能封闭式清洁，导致酒精挥发，造成污染，对人身造成损伤。同时人工清洁热盘时，每次只能清洗一个，且需要对热盘的双面进行清洁，清洁的效率低下，占用过多的资源。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种半导体设备的清洁装置，通过本实用新型提供的所述半导体设备的清洁装置，提高热盘的清洁效率、改善清洁效果且不会对环境造成污染。

为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型提供一种半导体设备的清洁装置，其至少包括：

多个清洁仓，并排设置，其中每个所述清洁仓包括：

第一滑轨，其设置在所述清洁仓的一侧的仓壁上；

托盘，其垂直于所述仓壁且滑动安装在所述第一滑轨上，以允许所述托盘沿所述第一滑轨的延伸方向移动；

清洁单元，其设置在所述托盘的承载面的一侧，所述清洁单元的工作端是朝向远离所述仓壁的一侧，所述清洁单元滑动安装在所述第一滑轨上，且允许所述清洁单元沿所述第一滑轨的延伸方向移动。

在本实用新型一实施例中，每个所述清洁仓还包括第二滑轨，所述第二滑轨设置在所述清洁仓的另一侧仓壁上，且与所述托盘连接，以允许所述托盘沿所述第二滑轨的延伸方向移动。

在本实用新型一实施例中，所述第二滑轨上设置有所述清洁单元，所述清洁单元滑动安装在所述第二滑轨上，且允许所述清洁单元沿所述第二滑轨的延伸方向移动。

在本实用新型一实施例中，所述清洁单元包括一个或多个喷淋装置，所述喷淋装置包括多个喷淋孔，所述喷淋孔沿喷淋装置的长度方向间隔布设；所述喷淋孔的孔口指向远离其所在仓壁的一侧。

在本实用新型一实施例中，所述清洁单元包括一个或多个清洁刷，所述清洁刷的工作端朝向远离其所在仓壁的一侧。

在本实用新型一实施例中，所述托盘的承载面上设置有卡槽，所述卡槽由所述托盘的一端延伸至另一端，所述卡槽的槽口方向与托盘的所述承载面垂直。

在本实用新型一实施例中，所述半导体设备的清洁装置还包括供应装置，所述供应装置设置在所述清洁仓的一侧，且与所述清洁仓连通。

在本实用新型一实施例中，所述半导体设备的清洁装置还包括泵和阀门，所述泵的一端与所述供应装置连接，所述泵的另一端与多个阀门的一端连接，所述阀门的另一端与所述清洁仓连接。

在本实用新型一实施例中，所述半导体设备的清洁装置还包括回收装置，所述回收装置设置在所述清洁仓的一侧，且与所述清洁装置连通。

在本实用新型一实施例中，所述半导体设备的清洁装置还包括控制装置，所述控制装置是电性连接于所述清洁仓、所述供应装置和所述回收装置。