[实用新型]一种半导体设备的清洁装置

权利要求书

1.一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，其至少包括：

多个清洁仓，并排设置，其中每个所述清洁仓包括：

第一滑轨，其设置在所述清洁仓的一侧的仓壁上；

托盘，其垂直于所述仓壁且滑动安装在所述第一滑轨上，以允许所述托盘沿所述第一滑轨的延伸方向移动；

清洁单元，其设置在所述托盘的承载面的一侧，所述清洁单元的工作端是朝向远离所述仓壁的一侧，所述清洁单元滑动安装在所述第一滑轨上，且允许所述清洁单元沿所述第一滑轨的延伸方向移动。

2.根据权利要求1所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，每个所述清洁仓还包括第二滑轨，所述第二滑轨设置在所述清洁仓的另一侧仓壁上，且与所述托盘连接，以允许所述托盘沿所述第二滑轨的延伸方向移动。

3.根据权利要求2所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述第二滑轨上设置有所述清洁单元，所述清洁单元滑动安装在所述第二滑轨上，且允许所述清洁单元沿所述第二滑轨的延伸方向移动。

4.根据权利要求1所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述清洁单元包括一个或多个喷淋装置，所述喷淋装置包括多个喷淋孔，所述喷淋孔沿喷淋装置的长度方向间隔布设；所述喷淋孔的孔口指向远离其所在仓壁的一侧。

5.根据权利要求1或4所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述清洁单元包括一个或多个清洁刷，所述清洁刷的工作端朝向远离其所在仓壁的一侧。

6.根据权利要求1所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述托盘的承载面上设置有卡槽，所述卡槽由所述托盘的一端延伸至另一端，所述卡槽的槽口方向与托盘的所述承载面垂直。

7.根据权利要求1所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述半导体设备的清洁装置还包括供应装置，所述供应装置设置在所述清洁仓的一侧，且与所述清洁仓连通。

8.根据权利要求7所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述半导体设备的清洁装置还包括泵和阀门，所述泵的一端与所述供应装置连接，所述泵的另一端与多个阀门的一端连接，所述阀门的另一端与所述清洁仓连接。

9.根据权利要求7所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述半导体设备的清洁装置还包括回收装置，所述回收装置设置在所述清洁仓的一侧，且与所述清洁装置连通。

10.根据权利要求9所述一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，所述半导体设备的清洁装置还包括控制装置，所述控制装置是电性连接于所述清洁仓、所述供应装置和所述回收装置。