[实用新型]一种硅片曝光结构有效
| 申请号： | 202022788025.6 | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN213814292U | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 赵凯 | 申请（专利权）人： | 吉林瑞能半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 吉林新发惠利知识产权代理事务所(普通合伙) 22216 | 代理人： | 纪尚 |
| 地址： | 132013 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本实用新型公开了一种硅片曝光结构，包括定位组件、曝光组件，所述定位组件包括定位条组、紧固螺丝组，所述曝光组件包括蓝膜、上层光刻版、下层光刻版、硅片，在运载硅片过程中，使用定位组件定位下层光刻版与蓝膜位置，使用蓝膜定位固定硅片与托载的光刻版，通过蓝膜产生的固定间隙，将正性光刻胶曝光过程中释放的N |
||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 曝光 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉林瑞能半导体有限公司，未经吉林瑞能半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202022788025.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：超声波金属制粉设备工具头
- 下一篇：一种新型艾灸罐
