[实用新型]一种硅片曝光结构

权利要求书

1.一种硅片曝光结构，其特征在于，所述结构包括定位组件、曝光组件，所述定位组件包括定位条组、紧固螺丝组、定位板，所述曝光组件包括蓝膜、上层光刻版、下层光刻版、硅片，所述硅片位于下层光刻版的上表面，且下层光刻版对应硅片四边的位置粘贴有一层蓝膜，所述上层光刻版位于硅片的正上方，并与下层光刻版相对应，所述定位条组包括四个定位条，所述每个定位条的两端各设有一个长条孔，所述紧固螺丝组包括八个紧固螺丝，所述四个定位条分别位于下层光刻版四边侧，并通过紧固螺丝穿过长条孔拧紧固定到定位板上，所述定位板位于下层光刻版的底部。

2.根据权利要求1所述的一种硅片曝光结构，其特征在于，所述蓝膜为半导体行业专用蓝膜，其厚度选择根据实际曝光效果进行选择。

3.根据权利要求1所述的一种硅片曝光结构，其特征在于，所述蓝膜的粘贴位置恰好位于定位条的下方，其外边界与定位条外边界重合。