[实用新型]真空溅射沉积装置有效

专利信息
申请号: 202022770945.5 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN213203181U 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 申承勋 申请(专利权)人: 乐金显示光电科技(中国)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C03C17/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 510530 广东省广州市广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种真空溅射沉积装置,包括室体,室体上设置有支撑托架,支撑托架上设置有绝缘衬套,绝缘衬套的一侧设置有背板,背板远离绝缘衬套的一侧设置有靶材,绝缘衬套内嵌设有加强板,加强板上开设有第一螺纹孔,绝缘衬套上开设有与第一螺纹孔连通的第一避让孔,背板上开设有第一固定孔,背板与加强板通过第一螺钉连接,第一螺钉依次穿过第一固定孔和第一避让孔旋拧至第一螺纹孔内。通过在绝缘衬套内嵌入一个加强板,加强板的强度大于绝缘衬套的强度,而在加强板上开设第一螺纹孔,使得第一螺钉避开绝缘衬套直接与加强板连接,在背板需要拆装时,旋拧第一螺钉的作用力施加在加强板上,有效地防止绝缘衬套破损。
搜索关键词: 真空 溅射 沉积 装置
【主权项】:
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