[实用新型]晶圆托盘组件和等离子体加工设备

摘要

本实用新型涉及一种晶圆托盘组件及等离子体加工设备，晶圆托盘组件包括托盘、放置平台和扩散件，放置平台设置在托盘上，放置平台设有第一数量的冷却气体通道；扩散件设置在放置平台上，并包括相背的第一表面和第二表面，第一表面开设有第一数量的第一通气孔，第二表面开设有第二数量的第二通气孔，第二数量大于第一数量，扩散件内还设有容腔，第一通气孔和第二通气孔均与容腔连通，第一通气孔与冷却气体通道对接，第二表面与一晶圆接触。能使得第二通气孔流出的冷却气体更为均匀，也可覆盖晶圆的更大面积，从而能对晶圆进行均匀的散热，晶圆局部冷却均匀，提高晶圆温度均匀性，进而提高等离子工艺的均匀性。