[实用新型]等离子体增强化学气相沉积装置

摘要

本实用新型涉及一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括壳体和设置于壳体内部的上电极、下电极和支架，上电极和下电极相对设置，并使上电极和下电极之间形成第一容纳腔，工件放置于第一容纳腔内并能够与第一容纳腔内的化学气体反应形成薄膜结构，下电极与壳体的底部之间形成第二容纳腔，支架用于支撑工件，支架设置于壳体的侧壁上，且支架位于第一容纳腔和第二容纳腔之间，支架开设有第一气流通道和第二气流通道，第一气流通道和第二气流通道分别连通第一容纳腔和第二容纳腔，相邻两个侧壁的相交处设有第一气流通道，每个侧壁的中线处设置有第二气流通道。该装置具有方便清理和保证工件的生产质量的特点。