[实用新型]磁控溅射设备的可调式挡板有效

专利信息
申请号: 202022361509.2 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN214168116U 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 唐云俊;王昱翔;周虹玲;周东修 申请(专利权)人: 浙江艾微普科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54
代理公司: 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 代理人: 王大国
地址: 314400 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种磁控溅射设备的可调式挡板,包括基底,所述基底上开设有通透上下表面的溅射口,所述溅射口内设置有移动挡片,移动挡片与基底水平滑动连接,移动挡片与基底之间设置有固定件,本实用新型可以现场根据实际溅射状况进行调整移动挡片的位置,以随时调节薄膜沉积均匀性,大幅减少新挡板设计、加工时间,提高工艺研发效率。
搜索关键词: 磁控溅射 设备 调式 挡板
【主权项】:
暂无信息
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