[实用新型]电阻测试结构有效

专利信息
申请号: 202022359891.3 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN213026120U 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 林均铭;黄秋桐;万海洋 申请(专利权)人: 普迪飞半导体技术(上海)有限公司
主分类号: H01L23/58 分类号: H01L23/58;G01R31/27
代理公司: 上海慧晗知识产权代理事务所(普通合伙) 31343 代理人: 王叶娟
地址: 200433 上海市杨*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种电阻测试结构,有利于接触孔电阻的测试。电阻测试结构包括:第一晶体管和第二晶体管,共用同一源区和阱区,第一晶体管包括第一栅门、第一漏区以及源区,第二晶体管包括第二栅门、第二漏区以及源区;后端导线,位于源区之上,且与所述源区相垂直;接触孔,位于源区与后端导线之间,用于实现后端导线与源区的互连;第一通孔,连接第一栅门与第二栅门;第二通孔和第三通孔,均设置在后端导线上,且位于接触孔的两侧;第四通孔和第五通孔,分别设置于第一漏区和第二漏区上;第六通孔,设置于阱区上;以及六组测试节点,包括分别连接第一至第六通孔的第一至第六测试节点,六组测试节点用于测试所述接触孔的电阻值。
搜索关键词: 电阻 测试 结构
【主权项】:
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