[实用新型]一种双面曝光机有效
| 申请号： | 202022097634.7 | 申请日： | 2020-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN213240802U | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 宋解放 | 申请（专利权）人： | 襄阳先泰电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 | 代理人： | 马赟斋;黄修远 |
| 地址： | 441000 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双面曝光机，涉及晶闸管生产设备，解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的技术问题。它包括机体，机体内安装有两个相对布置的安装座，安装座之间设有上下布置的两个安装支架，安装支架通过第一驱动组件活动的安装在安装座上；安装支架上设有光刻板定位支架，光刻板定位支架通过第二驱动组件活动的安装在安装支架上；两个安装支架之间设有硅片定位支架，硅片定位支架固定的安装在两个安装座之间；位于安装支架上方的机体上安装有上曝光灯，位于安装支架下方的机体上安装有下曝光灯。本实用新型能同时曝光硅片的两个面，大大的提高了工作效率，同时也避免了硅片容易受到污染的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 曝光 | ||
【主权项】：
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