[实用新型]一种双面曝光机有效

专利信息
申请号: 202022097634.7 申请日: 2020-09-23
公开(公告)号: CN213240802U 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 宋解放 申请(专利权)人: 襄阳先泰电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人: 马赟斋;黄修远
地址: 441000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 双面 曝光
【说明书】:

实用新型公开了一种双面曝光机,涉及晶闸管生产设备,解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的技术问题。它包括机体,机体内安装有两个相对布置的安装座,安装座之间设有上下布置的两个安装支架,安装支架通过第一驱动组件活动的安装在安装座上;安装支架上设有光刻板定位支架,光刻板定位支架通过第二驱动组件活动的安装在安装支架上;两个安装支架之间设有硅片定位支架,硅片定位支架固定的安装在两个安装座之间;位于安装支架上方的机体上安装有上曝光灯,位于安装支架下方的机体上安装有下曝光灯。本实用新型能同时曝光硅片的两个面,大大的提高了工作效率,同时也避免了硅片容易受到污染的问题。

技术领域

本实用新型涉及晶闸管生产设备,更具体地说,它涉及一种双面曝光机。

背景技术

晶闸管又可称做可控硅整流器。它是一种大功率开关型半导体器件,能在高电压、大电流条件下工作,且其工作过程可以控制、被广泛应用于可控整流、交流调压、无触点电子开关、逆变及变频等电子电路中。晶闸管主要以硅片为基材,在生产的过程中需要通过曝光工艺,使硅片上的光刻胶根据光刻板上的图形硬化,以形成保护层。但现有的曝光机大多只能对硅片进行单面曝光,当曝光硅片上另外的一个面时,需要对硅片进行翻转,重新对准再曝光。这样的方式不仅工作效率低,且在翻转硅片的过程中容易对硅片造成污染。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种双面曝光机,解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的问题。

本实用新型的技术方案是在于:一种双面曝光机,包括机体,所述机体内安装有两个相对布置的安装座,两个所述安装座之间设有上下布置的两个安装支架,所述安装支架通过第一驱动组件活动的安装在安装座上;所述安装支架上设有光刻板定位支架,所述光刻板定位支架通过第二驱动组件活动的安装在安装支架上,且所述第一驱动组件的运行方向与第二驱动组件的运动方向垂直;两个所述安装支架之间设有硅片定位支架,所述硅片定位支架固定的安装在两个安装座之间;所述安装支架与机体之间设有遮光帘;位于所述安装支架上方的机体上安装有上曝光灯,位于所述安装支架下方的机体上安装有下曝光灯。

作进一步的改进,所述第一驱动组件包括轴承座、步进电机、丝杆和导杆;所述轴承座安装在安装座的一端,所述步进电机安装在安装座的另一端,所述丝杆安装在步进电机的驱动端,所述丝杆的末端转动的安装在轴承座中;所述安装支架的一侧安装有螺纹套,所述螺纹套与丝杆螺纹连接;所述安装支架的另一侧安装有滑套,所述滑套与导杆滑动连接。

进一步的,所述螺纹套呈方形状;所述安装座上开设有与螺纹套相适配的滑槽,所述螺纹套滑动的安装在滑槽中。

更进一步的,所述第二驱动组件包括两根直线滑轨;两根所述直线滑轨安装在安装支架上,且所述直线滑轨与丝杆垂直布置,所述光刻板定位支架安装在直线滑轨的滑块上。

更进一步的,所述遮光帘为黑色的折叠帘。

更进一步的,所述上曝光灯和下曝光灯均通过升降组件安装在机体的内壁上。

更进一步的,所述升降组件包括电动推杆和用于安装曝光灯的支撑座;所述机体的内壁上开设有T型导向槽,所述支撑座通过滑轨滑动的安装在T型导向槽中,所述电动推杆安装在机体上,所述电动推杆的驱动端与支撑座连接。

有益效果

本实用新型的优点在于:通过安装支架、硅片定位支架、光刻板定位支架以及遮光帘将机体分隔成上下两部分,以使曝光机在对硅片曝光时能同时曝光硅片的上下两个面,解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的问题。

附图说明

图1为本实用新型侧面剖视结构示意图;

图2为本实用新型的内部俯视结构示意图。

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