[实用新型]一种离线式光罩盒光罩固定机构有效
| 申请号: | 202021945920.8 | 申请日: | 2020-09-08 |
| 公开(公告)号: | CN213149469U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
| 发明(设计)人: | 童明 | 申请(专利权)人: | 上海赛瑾精密科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙) 31292 | 代理人: | 俞晨波 |
| 地址: | 200124 上海市嘉定*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种离线式光罩盒光罩固定机构,包括:光罩盒和光罩,所述光罩盒分为上罩和下罩,所述光罩设置在上罩和下罩之间,所述上罩的内壁上安装有上固定机构,所述下罩的内壁上安装有下固定机构;所述上固定机构和下固定机构的结构相同且分别设置有4个,所述上固定机构包括固定板、弯曲段、托钩和螺母柱,所述上固定机构通过螺母柱并采用螺栓与上罩固定连接,所述下固定机构通过螺母柱并采用螺栓与下罩固定连接。本实用新型光罩支撑采用半圆支撑的固定方式,固定结构简单可靠;光罩左右圆弧面接触确保接触mask四角,接触面小,且带斜面导向,确保mask的有效固定。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 离线 式光罩盒光罩 固定 机构 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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