[实用新型]一种离线式光罩盒光罩固定机构有效
| 申请号: | 202021945920.8 | 申请日: | 2020-09-08 |
| 公开(公告)号: | CN213149469U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
| 发明(设计)人: | 童明 | 申请(专利权)人: | 上海赛瑾精密科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙) 31292 | 代理人: | 俞晨波 |
| 地址: | 200124 上海市嘉定*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 离线 式光罩盒光罩 固定 机构 | ||
本实用新型公开了一种离线式光罩盒光罩固定机构,包括:光罩盒和光罩,所述光罩盒分为上罩和下罩,所述光罩设置在上罩和下罩之间,所述上罩的内壁上安装有上固定机构,所述下罩的内壁上安装有下固定机构;所述上固定机构和下固定机构的结构相同且分别设置有4个,所述上固定机构包括固定板、弯曲段、托钩和螺母柱,所述上固定机构通过螺母柱并采用螺栓与上罩固定连接,所述下固定机构通过螺母柱并采用螺栓与下罩固定连接。本实用新型光罩支撑采用半圆支撑的固定方式,固定结构简单可靠;光罩左右圆弧面接触确保接触mask四角,接触面小,且带斜面导向,确保mask的有效固定。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域,更具体为一种离线式光罩盒光罩固定机构。
背景技术
近年来电子产品不断朝向轻薄短小、高频、高效能等特性发展,而欲满足这个产品发展的方向,用于电子产品中的核心半导体元件或液晶显示元件的芯片就需微小化与具有高效能,而欲使芯片微小化与具高效能,则需使芯片上的集成电路线径微细化。芯片上集成电路线径的微细化的成败主要在于半导体工艺中的黄光微影工艺技术,其关键设备是在于光罩(photomask)。在半导体应用中,将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩,然后利用曝光原理,则光源通过光罩投影至硅圆即可曝光显示特定图案。
目前,现有的光罩存在如下问题:光罩存放在光罩盒内进行固定,固定方式较为复杂,且光罩盒移动的过程中光罩会在盒内晃动造成磨损。为此,需要设计一个新的方案给予改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种离线式光罩盒光罩固定机构,解决了背景技术中所提出的问题,满足实际使用需求。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种离线式光罩盒光罩固定机构,包括:光罩盒和光罩,所述光罩盒分为上罩和下罩,所述光罩设置在上罩和下罩之间,所述上罩的内壁上安装有上固定机构,所述下罩的内壁上安装有下固定机构;所述上固定机构和下固定机构的结构相同且分别设置有4个,所述上固定机构包括固定板、弯曲段、托钩和螺母柱,所述上固定机构通过螺母柱并采用螺栓与上罩固定连接,所述下固定机构通过螺母柱并采用螺栓与下罩固定连接。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述弯曲段与固定板一体成型且弯折形成倒钩形结构,所述托钩与弯曲段的端部连接且与弯曲段呈反向弯折。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述托钩的一端与弯曲段连接、另一端的端面呈圆弧状且与光罩贴合连接,所述弯曲段与托钩的连接处设置有支撑凸块,所述支撑凸块的端部与光罩外壁连接。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述上罩和下罩后端采用铰链转动连接,所述上罩和下罩的前端设置有锁扣且采用锁扣连接。
作为本实用新型的一种优选实施方式,靠近锁扣的两个所述下固定机构横向设置,远离锁扣的两个所述下固定机构纵向设置。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
(1)本实用新型,光罩支撑采用半圆支撑的固定方式,固定结构简单可靠。
(2)本实用新型,光罩左右圆弧面接触确保接触mask四角,接触面小,且带斜面导向,确保mask的有效固定,避免其造成磨损。
附图说明
图1为本实用新型所述离线式光罩盒的结构图;
图2为本实用新型所述光罩与固定机构的连接侧视图;
图3为本实用新型所述光罩与固定机构的连接俯视图。
图中:1、光罩盒;2、光罩;3、锁扣;4、上固定机构;5、下固定机构; 6、固定板;7、弯曲段;8、托钩;9、螺母柱;10、上罩;11、下罩;12、支撑凸块。
具体实施方式
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





