[实用新型]一种单晶硅片的双面抛光装置有效
| 申请号： | 202021901917.6 | 申请日： | 2020-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN213081112U | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 向菊 | 申请（专利权）人： | 深圳市羿烽科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/10 | 分类号： | B24B31/10;B24B31/12;B24B47/00 |
| 代理公司： | 重庆百润洪知识产权代理有限公司 50219 | 代理人： | 郝艳平 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型新型涉及一种单晶硅片的双面抛光装置，包括用于盛放磨削液的液体容器；液体容器底部设置有旋转驱动部；液体容器内设置有第一涡轮；涡轮与旋转驱动部相接，液体容器上侧设置有硅片托盘；硅片托盘设置有硅片夹持机构；硅片托盘上侧连接有旋转机构；旋转机构包括第一主轴和第二主轴；第一主轴和第二主轴之间通过反转齿轮箱相接；第一主轴上设置第二涡轮；硅片托盘设置于第二主轴底部。本实用新型通过在第二主轴外侧固定连接第二涡轮，第二主轴与第一主轴反向转动，使第二涡轮的转动方向与硅片托盘的转动方向相反，由于第二涡轮位于硅片托盘的上方，第二涡轮可以对单晶硅片的上表面形成反向转动的高速水流，对单晶硅片的上表面进行抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 双面 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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