[实用新型]等离子刻蚀机的电极结构有效
| 申请号： | 202021884068.8 | 申请日： | 2020-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN213026045U | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 何进卿;夏志良;张光轩;刘青松;豆海清 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 骆希聪 |
| 地址： | 430079 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种等离子刻蚀机的电极结构，包括：第一电极，具有第一表面，第一表面用于承载样品；位于第一电极上方且相对于第一电极设置的第二电极；以及第三电极，具有第二表面，第三电极可移动地设于第二电极的外侧，以调节第二表面相对于第一表面的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 刻蚀 电极 结构 | ||
【主权项】：
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