[实用新型]等离子刻蚀机的电极结构有效

专利信息
申请号: 202021884068.8 申请日: 2020-09-01
公开(公告)号: CN213026045U 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 何进卿;夏志良;张光轩;刘青松;豆海清 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 430079 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 等离子 刻蚀 电极 结构
【权利要求书】:

1.一种等离子刻蚀机的电极结构,其特征在于,包括:

第一电极,具有第一表面,所述第一表面用于承载样品;

位于所述第一电极上方且相对于所述第一电极设置的第二电极;以及

第三电极,具有第二表面,所述第三电极可移动地设于所述第二电极的外侧,以调节所述第二表面相对于所述第一表面的距离。

2.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述第三电极在所述第一表面的投影位于所述样品在所述第一表面的投影的外侧。

3.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,还包括控制杆,用于带动所述第三电极移动,以调节所述第二表面相对于所述第一表面的距离。

4.根据权利要求3所述的电极结构,其特征在于,还包括用于驱动所述控制杆的电机。

5.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述第三电极环绕所述第二电极。

6.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,还包括第四电极,具有第三表面,所述第四电极可移动地设于所述样品的外侧,以调节所述第三表面相对于所述第二表面的距离。

7.根据权利要求6所述的电极结构,其特征在于,所述第四电极环绕所述第一电极。

8.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述样品的尺寸小于或等于所述第一电极的尺寸。

9.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述样品的尺寸小于或等于所述第二电极的尺寸。

10.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述样品包括晶圆。

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