[实用新型]一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具有效
| 申请号： | 202021841400.2 | 申请日： | 2020-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN213468854U | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 朱光宇;贺贤汉;王松朋;张正伟;李泓波 | 申请（专利权）人： | 富乐德科技发展（大连）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B13/00 |
| 代理公司： | 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人： | 盖小静 |
| 地址： | 116600 辽宁省大连市保税区*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，包括上限制盖板，下限制盖板和泄流提拉杆，所述上限制盖板内凹设有上覆盖槽，该上覆盖槽底部设有泄流通孔a；所述下限制盖板内凹设有下覆盖槽，该下覆盖槽底部设有泄流通孔b，在下覆盖槽侧壁顶部设有密封槽；所述泄流通孔a或泄流通孔b内连接有泄流提拉杆。通过本申请辅助治具，可以实现精准定向去膜，保护自校准罩本体外侧不接触化学品，所以可以应用效率较高的氢氟酸、硝酸的混酸去膜法进行高效率去膜，自校准罩上镶嵌的三个定位销在去膜时也不受化学品影响，而且该治具可以重复应用，既提高了去膜效率，又节约了时间和化学品成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体设备 沉积 校准 定向 清洗 辅助 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富乐德科技发展（大连）有限公司，未经富乐德科技发展（大连）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202021841400.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种转炉音频采集防护装置
- 下一篇：一种门窗加工用喷漆装置
