[实用新型]一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具

权利要求书

1.一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，包括上限制盖板，下限制盖板和泄流提拉杆，所述上限制盖板内凹设有上覆盖槽，该上覆盖槽底部设有泄流通孔a；所述下限制盖板内凹设有下覆盖槽，该下覆盖槽底部设有泄流通孔b，在下覆盖槽侧壁顶部设有密封槽；所述泄流通孔a或泄流通孔b内连接有泄流提拉杆。

2.根据权利要求1所述一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，所述上限制盖板，下限制盖板和泄流提拉杆的材质为特氟龙。

3.根据权利要求1所述一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，所述上限制盖板位于自校准罩顶部的凸沿与陶瓷定位销之间。

4.根据权利要求3所述一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，所述上限制盖板的上覆盖槽内壁与自校准罩顶部的凸沿外壁贴合，且用耐酸碱胶带进行密封。

5.根据权利要求1所述一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，所述下限制盖板位于自校准罩内的卡台上，所述卡台的内边缘设有凸起的密封沿，该密封沿与下覆盖槽上的密封槽紧密配合。

6.根据权利要求5所述一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，所述下限制盖板与自校准罩内的卡台连接处用耐酸碱胶带进行密封。

7.根据权利要求1所述一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，所述泄流通孔a、泄流通孔b均为螺纹孔，泄流提拉杆底部拧入螺纹孔内。

8.根据权利要求1所述一种半导体设备钛沉积腔自校准罩定向去膜清洗辅助治具，其特征在于，所述泄流提拉杆顶部设有五角形拧头。