[实用新型]光刻设备有效
| 申请号： | 202021754277.0 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN212647262U | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 林刘恭 | 申请（专利权）人： | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 刘彬 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种光刻设备，用以在一转印滚轮的外表面曝光，光刻设备包括具有一准直焦点的一准直透镜、具有一校正焦点的一校正透镜、具有一汇聚焦点的一汇聚透镜、一曝光装置、以及一分辨率光罩。校正透镜设置在准直透镜相对远离准直焦点的一侧；汇聚透镜设置在校正透镜相对远离校正焦点的一侧；分辨率光罩设置在准直透镜与校正透镜之间。曝光装置用来投射一全息投影图像。分辨率光罩具有多个微结构，多个微结构用来使部分通过分辨率光罩的全息投影图像的光线从校正焦点射出，并依次通过校正透镜与汇聚透镜，最后集中投影在转印滚轮的外表面。借由“分辨率光罩具有多个微结构”的技术方案，光刻设备投影出来的影像的分辨率能被有效地提升。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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