[实用新型]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，其特征在于，所述光刻设备用以在一转印滚轮的外表面曝光，所述光刻设备包括：

一准直透镜，具有一准直焦点；

一校正透镜，具有一校正焦点，并且所述校正透镜设置在所述准直透镜相对远离所述准直焦点的一侧；

一汇聚透镜，具有一汇聚焦点，并且所述汇聚透镜设置在所述校正透镜相对远离所述校正焦点的一侧；

一曝光装置，设置在所述准直焦点上并且包含多个发光二极管光源，多个所述发光二极管光源用来发出波长范围为200纳米至400纳米的紫外光；其中，所述曝光装置用来投射一全息投影图像，所述全息投影图像能依次通过所述准直透镜、所述校正透镜、及所述汇聚透镜并曝光在所述转印滚轮的所述外表面；以及

一分辨率光罩，用来提升照射在所述转印滚轮的所述外表面的所述全息投影图像的分辨率；其中，所述分辨率光罩设置在所述准直透镜与所述校正透镜之间，并且所述分辨率光罩具有多个微结构，多个所述微结构用来使部分通过所述分辨率光罩的所述全息投影图像的光线从所述校正焦点射出，并依次通过所述校正透镜与所述汇聚透镜，最后集中投影在所述转印滚轮的所述外表面。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述光刻设备进一步包含一自动对焦装置，所述自动对焦装置与所述校正透镜呈间隔地设置，并且所述自动对焦装置用来调整所述校正透镜与所述分辨率光罩之间的距离，使所述分辨率光罩位于所述校正焦点。

3.根据权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述光刻设备进一步包含一旋转台，安装在所述分辨率光罩并且能用来旋转所述分辨率光罩，使曝光在所述转印滚轮的所述外表面的所述全息投影图像方向改变。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其特征在于，所述旋转台安装在所述分辨率光罩相对远离所述准直透镜的一侧，并且所述旋转台包含一角度标示器，所述角度标示器可用来精准调整所述旋转台旋转所述分辨率光罩的角度。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述校正透镜及所述汇聚透镜各为双凸透镜。

6.根据权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述校正透镜具有相对于所述校正焦点的一校正焦距，而所述汇聚透镜具有相对于所述汇聚焦点的一汇聚焦距；其中，所述校正焦距大于所述汇聚焦距。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，其特征在于，所述校正透镜与所述汇聚透镜之间的距离等于所述校正焦距与所述汇聚焦距的总和。

8.根据权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述曝光装置的多个所述发光二极管光源用来发出波长为365纳米的紫外光。

9.根据权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述分辨率光罩的多个所述微结构各呈长条状，并且任两个所述微结构之间的距离相同。

10.根据权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述分辨率光罩设置在所述校正透镜的所述校正焦点上。