[实用新型]一种电介质刻蚀机气体分配器结构有效
| 申请号： | 202021738329.5 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN212542349U | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 陆桥宏;任斌;张伏贵;任志强;王小艳 | 申请（专利权）人： | 无锡展硕科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人： | 杨立秋 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及电介质刻蚀机设备技术领域，具体涉及一种电介质刻蚀机气体分配器结构，包括分配板，分配板的顶部开设有分配腔，分配腔的底壁均匀开设有第一分配孔，第一分配孔的底部轴心处开设有第二分配孔，第一分配孔的底部周向开设有第三分配孔，本实用新型提供了一种电介质刻蚀机气体分配器结构，通过一系列结构的设计和使用，解决了存在气体分配均匀效果差，导致整个晶片表面的刻蚀或沉积的速率和均匀性都有很大的差异，从而影响晶片加工的良品率的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电介质 刻蚀 气体 分配器 结构 | ||
【主权项】：
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