[实用新型]多孔阵列制膜组件以及疏水膜有效
| 申请号： | 202021729236.6 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN211636031U | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 孙道宝;胡晓宇;高旭;王晶晶 | 申请（专利权）人： | 天津膜天膜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B01D61/02 | 分类号： | B01D61/02;B01D63/08;B01D67/00;B01D69/02 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 杨欢 |
| 地址： | 300457 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型属于膜分离领域，具体涉及一种多孔阵列制膜组件以及疏水膜，多孔阵列制膜组件包括模具以及设置在所述的模具内的纳米凹陷；所述的纳米凹陷的孔径d为50nm‑100nm；孔深h为50nm‑100nm；相邻孔间距D为孔径d的2‑100倍。本申请提供了一种微观表面结构成阵列式规整排列的疏水膜以及制膜组件，通过在模具表面设置规整排列的纳米阵列凹陷，通过抽真空一体成型，从而获得表面拥有规整排列阵列凸起的平板膜，仿生阵列的“荷叶效应”进一步提升其疏水性。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔 阵列 组件 以及 疏水 | ||
【主权项】：
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