[实用新型]多孔阵列制膜组件以及疏水膜有效
| 申请号： | 202021729236.6 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN211636031U | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 孙道宝;胡晓宇;高旭;王晶晶 | 申请（专利权）人： | 天津膜天膜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B01D61/02 | 分类号： | B01D61/02;B01D63/08;B01D67/00;B01D69/02 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 杨欢 |
| 地址： | 300457 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多孔 阵列 组件 以及 疏水 | ||
【权利要求书】：
1.一种多孔阵列制膜组件，其特征在于，包括模具以及设置在所述的模具内的纳米凹陷；所述的纳米凹陷的孔径d为50nm-100nm；孔深h为50nm-100nm；相邻孔间距D为孔径d的2-100倍；所述的纳米凹陷上设置有与真空通道连通的通孔。
2.一种疏水膜，其特征在于，使用权利要求1所述的多孔阵列制膜组件制备；所述的疏水膜包括膜以及设置在所述的膜上的微纳米凸起；所述的微纳米凸起与多孔阵列制膜组件的微纳米凹陷对应；所述的膜与所述的模具对应；所述的膜以及所述的微纳米凸起一体成型。
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