[实用新型]多孔阵列制膜组件以及疏水膜

说明书

本实用新型属于膜分离领域，具体涉及一种多孔阵列制膜组件以及疏水膜，多孔阵列制膜组件包括模具以及设置在所述的模具内的纳米凹陷；所述的纳米凹陷的孔径d为50nm‑100nm；孔深h为50nm‑100nm；相邻孔间距D为孔径d的2‑100倍。本申请提供了一种微观表面结构成阵列式规整排列的疏水膜以及制膜组件，通过在模具表面设置规整排列的纳米阵列凹陷，通过抽真空一体成型，从而获得表面拥有规整排列阵列凸起的平板膜，仿生阵列的“荷叶效应”进一步提升其疏水性。

技术领域

本实用新型属于膜分离领域，具体涉及一种多孔阵列制膜组件以及疏水膜。

背景技术

随着膜技术的发展，疏水膜在膜蒸馏、气体分离、脱水、全蒸发、乳化等方面应用广泛。荷叶具有良好的疏水性，主要归功于荷叶微观表面疏水的凸起结构。

目前疏水膜制备方法主要有相转化法、表面改性法、拉伸法和复合膜法等。由于特殊的“疏水性”需求，目前主要通过选择疏水性材料以及后续的疏水性改性获得疏水膜而鲜有通过膜本身的成型结构改变影响其疏水性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多孔阵列制膜组件以及疏水膜。

本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：

一种多孔阵列制膜组件，包括模具以及设置在所述的模具内的纳米凹陷；所述的纳米凹陷的孔径d为50nm-100nm；孔深h为50nm-100nm；相邻孔间距D为孔径d的2-100倍；所述的纳米凹陷上设置有与真空通道连通的通孔。

一种疏水膜，使用所述的多孔阵列制膜组件制备；所述的疏水膜包括膜以及设置在所述的膜上的纳米凸起；所述的纳米凸起与多孔阵列制膜组件的纳米凹陷对应。

所述的膜以及所述的纳米凸起通过抽真空一体成型；所述真空度为-1Mpa-0MPa。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本申请提供了一种微观表面结构成阵列式规整排列的疏水膜以及制膜组件，通过在模具表面设置规整排列的纳米阵列凹陷，从而获得表面拥有规整排列阵列凸起的平板膜，由于膜表面的凸起为纳米级，普通模具在流延成膜的过程中角落易形成缺陷，因此在纳米凹陷的表面设置了与真空通道连通的通孔，通过抽真空的作用，使铸膜液延展到纳米凹陷的角落，从而使得到的输水膜表面形成一体成型的规则的纳米凸起。

仿生阵列的“荷叶效应”进一步提升其疏水性。模具纳米凹陷结构简单，可使用现有模具加工制成。模具纳米凹陷结构的加入，只物理改变膜表面微观形貌，不会影响现有的制膜工艺参数。抽真空处理模具可以使料液能够更好的平铺在模具上，使膜表面阵列凸起更规整。

附图说明

图1 为本实用新型多孔阵列制膜组件的整体结构示意图；

图2为本实用新型疏水膜的整体结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

图1示出一种多孔阵列制膜组件，a为透视图，b为平视图，包括模具1以及设置在所述的模具内的纳米凹陷2；所述的纳米凹陷的孔径d为50nm-100nm；孔深h为50nm-100nm；相邻孔间距D为孔径d的2-100倍;所述的纳米凹陷2上设置有与真空通道5连通的通孔。

模具1材质可为玻璃、聚四氟乙烯、不锈钢等，尺寸可按需裁剪。所述纳米凹陷2可通过化学腐蚀、激光刻蚀、等离子体刻蚀等工艺加工。