[实用新型]一种新型的特气喷淋管道有效
| 申请号： | 202021654035.4 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN213388888U | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 邵家国;李向阳 | 申请（专利权）人： | 杭州海莱德智能科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 杭州中港知识产权代理有限公司 33353 | 代理人： | 张晓红 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市萧山区萧*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种新型的特气喷淋管道，属于板式PECVD设备技术领域。包括设置在PECVD设备石墨框上方的喷气管，喷气管与第一气管、第二气管连通，第一气管、第二气管通过三通接头与总气管连通，喷气管上设置一组喷淋孔，其特征在于喷气管两侧各增设至少一个左侧喷淋孔、至少一个右侧喷淋孔，左侧喷淋孔、右侧喷淋孔分别对应PECVD设备的石墨框两侧喷气。上述一种新型的特气喷淋管道，不仅能使硅片镀膜均匀，而且便于清洗，延长了特气喷淋管道的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 喷淋 管道 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
