[实用新型]曝光定位装置有效
| 申请号： | 202021577174.1 | 申请日： | 2020-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN212515346U | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 叶小龙;侯广杰 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331 | 代理人： | 寇闯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于掩模版制造领域，尤其涉及一种曝光定位装置，包括定位结构本体，定位结构本体具有相对设置的贴合面和安置面，贴合面为平面且与支撑平面相贴合，贴合面开设有气压汇集槽，气压汇集槽与各吸孔均连通，安置面开设用于供环形掩模版放置的安置槽，安置槽的槽底为平面，且平行于贴合面，安置槽的截面形状与环形掩模版的外环形状相匹配，安置槽的槽底开设有多个引气孔，各引气孔均连通至气压汇集槽，各引气孔均与环形掩模版相对设置。本实用新型解决了技术中对环形掩模版的定位容易存在吸力不足的问题，进而避免环形掩模版上的掩模图像错位，提高环形掩模版上的掩模图像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 定位 装置 | ||
【主权项】：
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