[实用新型]曝光定位装置

权利要求书

1.一种曝光定位装置，用于对环形掩模版进行定位，并与定位平台配合使用，其中，所述定位平台具有朝上设置的支撑平面，所述支撑平面开设有多个吸孔，其特征在于，所述曝光定位装置包括定位结构本体，所述定位结构本体具有相对设置的贴合面和安置面，所述贴合面为平面且与所述支撑平面相贴合，所述贴合面开设有气压汇集槽，所述气压汇集槽与各所述吸孔均连通，所述安置面开设用于供所述环形掩模版放置的安置槽，所述安置槽的槽底为平面，且平行于所述贴合面，所述安置槽的截面形状与所述环形掩模版的外环形状相匹配，所述安置槽的槽底开设有多个引气孔，各所述引气孔均连通至所述气压汇集槽，各所述引气孔均与所述环形掩模版相对设置。

2.如权利要求1所述的曝光定位装置，其特征在于，各所述引气孔绕所述环形掩模版的中心轴线环设一周，各所述引气孔间隔设置。

3.如权利要求2所述的曝光定位装置，其特征在于，各所述引气孔在周向上等间距设置。

4.如权利要求1所述的曝光定位装置，其特征在于，所述安置槽开设有呈环形的吸版槽，所述吸版槽与所述环形掩模版相对设置；

各所述引气孔开设于所述吸版槽的槽底。

5.如权利要求4所述的曝光定位装置，其特征在于，所述吸版槽的槽宽大于所述引气孔的孔径。

6.如权利要求5所述的曝光定位装置，其特征在于，所述吸版槽的槽宽与所述引气孔的孔径之比为1.5～2.5。

7.如权利要求1所述的曝光定位装置，其特征在于，所述安置面为平面，且与所述贴合面相互平行。

8.如权利要求7所述的曝光定位装置，其特征在于，所述安置槽的槽深小于所述环形掩模版的厚度。