[实用新型]曝光定位装置

说明书

本实用新型属于掩模版制造领域，尤其涉及一种曝光定位装置，包括定位结构本体，定位结构本体具有相对设置的贴合面和安置面，贴合面为平面且与支撑平面相贴合，贴合面开设有气压汇集槽，气压汇集槽与各吸孔均连通，安置面开设用于供环形掩模版放置的安置槽，安置槽的槽底为平面，且平行于贴合面，安置槽的截面形状与环形掩模版的外环形状相匹配，安置槽的槽底开设有多个引气孔，各引气孔均连通至气压汇集槽，各引气孔均与环形掩模版相对设置。本实用新型解决了技术中对环形掩模版的定位容易存在吸力不足的问题，进而避免环形掩模版上的掩模图像错位，提高环形掩模版上的掩模图像质量。

技术领域

本实用新型属于掩模版制造领域，尤其涉及一种曝光定位装置。

背景技术

掩模版为一种由表面金属薄膜记载图形、文字等信息的介质载板，一般情况下介质载板为透明玻璃。

掩模版在制造过程中，需要利用光刻机对掩模版的表面的感光胶进行感光处理，从而获得预期掩模图像。具体的，在曝光过程中，对掩模版的定位和固定主要是利用定位平台，定位平台具有朝上设置的支撑平面，其中，为固定掩模版，支撑平面上回开设多个与外部负压发生器连接的的气孔，其中，各气孔的布置呈阵列设置。

而对于环形掩模版的定位和固定，基于环形掩模版的环形结构的特性，环形掩模版仅是与部分气孔相对，其他部分则未能相对，因此，在具体使用过程中，需要利用封堵结构对未与环形掩模版相对的气孔进行封堵，以达到气压平衡的作用，但在利用封堵结构进行封堵的过程中，存在封堵不到位的问题，定位平台对环形掩模版的吸力不足，导致环形掩模版上的掩模图像错位，影响环形掩模版上的掩模图像质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种曝光定位装置，其旨在解决现有技术中对环形掩模版的定位容易存在吸力不足，导致环形掩模版上的掩模图像错位，影响环形掩模版上的掩模图像质量。

本实用新型是这样实现的：

一种曝光定位装置，用于对环形掩模版进行定位，并与定位平台配合使用，其中，所述定位平台具有朝上设置的支撑平面，所述支撑平面开设有多个吸孔，所述曝光定位装置包括定位结构本体，所述定位结构本体具有相对设置的贴合面和安置面，所述贴合面为平面且与所述支撑平面相贴合，所述贴合面开设有气压汇集槽，所述气压汇集槽与各所述吸孔均连通，所述安置面开设用于供所述环形掩模版放置的安置槽，所述安置槽的槽底为平面，且平行于所述贴合面，所述安置槽的截面形状与所述环形掩模版的外环形状相匹配，所述安置槽的槽底开设有多个引气孔，各所述引气孔均连通至所述气压汇集槽，各所述引气孔均与所述环形掩模版相对设置。

可选地，各所述引气孔绕所述环形掩模版的中心轴线环设一周，各所述引气孔间隔设置。

可选地，各所述引气孔在周向上等间距设置。

可选地，所述安置槽开设有呈环形的吸版槽，所述吸版槽与所述环形掩模版相对设置；

各所述引气孔开设于所述吸版槽的槽底。

可选地，所述吸版槽的槽宽大于所述引气孔的孔径。

可选地，所述吸版槽的槽宽与所述引气孔的孔径之比为1.5～2.5。

可选地，所述安置面为平面，且与所述贴合面相互平行。

可选地，所述安置槽的槽深小于所述环形掩模版的厚度。

在本实用新型中，由于各引气孔均连通至气压汇集槽，避免了直接将环形掩模版防止到定位平台上时出现部分气孔未相对而需要额外封堵的情况，从而解决了技术中对环形掩模版的定位容易存在吸力不足的问题，进而避免环形掩模版上的掩模图像错位，提高环形掩模版上的掩模图像质量。

附图说明