[实用新型]感性耦合反应器有效
| 申请号： | 202021506952.8 | 申请日： | 2020-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN212322965U | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 吴堃 | 申请（专利权）人： | 上海邦芯半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01J37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201500 上海市金*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种感性耦合反应器包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体上方的感性耦合等离子体源；所述感性耦合等离子体源包括：第一反应介质室；位于第一反应介质室上方的第二反应介质室，所述第二反应介质室的底部和所述第一反应介质室的顶部中间区域贯通，所述第二反应介质室的侧壁底部延伸至所述第一反应介质室内且高度可调；位于所述第一反应介质室侧部的下射频天线；位于所述第二反应介质室侧部的上射频天线；所述上射频天线馈入的射频功率和所述下射频天线馈入的射频功率分别可调。所述感性耦合反应器能够加强对等离子分布的控制能力。 | ||
| 搜索关键词： | 感性 耦合 反应器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
