[实用新型]一种半导体元器件用真空烧结装置有效

专利信息
申请号: 202021158353.1 申请日: 2020-06-19
公开(公告)号: CN212778578U 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 周宗辉 申请(专利权)人: 北京华芯微半导体有限公司
主分类号: F27B5/05 分类号: F27B5/05;F27B5/12;F27B5/13;F27B5/06;F27D17/00;H01L21/67
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 孙铭侦
地址: 100089 北京市海淀区上*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种半导体元器件用真空烧结装置,涉及烧结装置的技术领域。其技术要点是:包括烧结室,所述烧结室的上侧设有出烟口,所述烧结室的下端设有入料口,所述入料口的下侧设有料台,所述料台的下侧设有支撑座,所述支撑座的上端开设有滑槽,所述料台通过支撑腿滑动连接于所述滑槽内,所述支撑腿插接于所述料台的下表面,所述料台一侧的侧壁通过第一连接组件连接有第一气缸,所述料台的下表面设有第二气缸,所述第二气缸通过第二连接组件连接于所述料台。设置的料台,通过设置的第一连接组件能够将料台从一侧推到另一侧,再通过第二连接组件对料台进行升降,具有便于对料台进行移动运输的特点。
搜索关键词: 一种 半导体 元器件 真空 烧结 装置
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