[实用新型]一种硅片镀膜片

摘要

本实用新型公开了一种硅片镀膜片，包括硅片本体，其特征在于，硅片本体的端面上沉积有复合功能膜层，复合功能膜层包含硅片本体依次向外沉积的氮化硅膜层一、氮化硅膜层二、耐高温阻燃膜层及氧化硅膜层，氮化硅膜层一及氮化硅膜层二的厚度依次递增，氮化硅膜层一及氮化硅膜层二的折射率均大于氧化硅膜层的折射率，耐高温阻燃膜层设于氮化硅膜层二及氧化硅膜层之间。本实用新型的有益效果：本申请通过优化硅片膜层的结构以及厚度参数，使得硅片进行镀膜处理过程中的镀膜效果以及效率得以显著提高，采用本申请优化工艺，能够减少制绒、扩散步骤，降低了对硅片的损伤和硅片碎片率，减少了原料消耗，降低了生产成本，提高了工作效率。