[实用新型]一种硅片镀膜片

权利要求书

1.一种硅片镀膜片，包括硅片本体（1），其特征在于，所述硅片本体（1）的端面上沉积有复合功能膜层（2），所述复合功能膜层（2）包含所述硅片本体（1）依次向外沉积的氮化硅膜层一（2a）、氮化硅膜层二（2b）、耐高温阻燃膜层（2c）及氧化硅膜层（2d），所述氮化硅膜层一（2a）及所述氮化硅膜层二（2b）的厚度依次递增，所述氮化硅膜层一（2a）及所述氮化硅膜层二（2b）的折射率均大于所述氧化硅膜层（2d）的折射率，所述耐高温阻燃膜层（2c）设于所述氮化硅膜层二（2b）及所述氧化硅膜层（2d）之间。

2.根据权利要求1所述的硅片镀膜片，其特征在于，所述氮化硅膜层一（2a）的厚底为10~30nm，折射率为1.8~2.0。

3.根据权利要求1所述的硅片镀膜片，其特征在于，所述氮化硅膜层二（2b）的厚底为20~50nm，折射率为2.0~2.3。

4.根据权利要求1所述的硅片镀膜片，其特征在于，所述氧化硅膜层（2d）的厚底为0.5~3nm，折射率为1.0~1.5。

5.根据权利要求1所述的硅片镀膜片，其特征在于，所述耐高温阻燃膜层（2c）的厚度为5~15nm，折射率为1.0~1.8。

6.根据权利要求1所述的硅片镀膜片，其特征在于，所述氮化硅膜层一（2a）及所述氮化硅膜层二（2b）的折射率大于所述氧化硅膜层（2d）的折射率。