[实用新型]一种半导体光刻板清洗装置有效

专利信息
申请号: 202021006667.X 申请日: 2020-06-04
公开(公告)号: CN212597355U 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 韩波 申请(专利权)人: 汉斯自动化科技(江苏)有限公司
主分类号: B08B1/04 分类号: B08B1/04;B08B13/00
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 王勇
地址: 221600 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型适用于光刻板清洗技术领域,一种半导体光刻板清洗装置,其包括机壳;机壳顶端的中部设置有电机,电机的电机轴贯穿于机壳的内部,电机的电机轴末端固定有主动齿,机壳内部的顶端设置有轴承,轴承均匀设置有多组,轴承的底端安装有转杆,转杆的底端贯穿于机壳的底部,转杆的底端设置有清理布刷,转杆的外壁设置有从动齿;机壳底端的背侧固定有输液板,输液板的表面开设有出水孔,机壳内部的右侧设置有水泵,水泵的进水端连接有进水管,水泵的出水端连接有出水管。本实用新型机壳底部设置有出水机构和清理机构,可以对附着在光刻板杂质进行快速的清理,且清理机构采用电力驱动,起到快速清理的效果,提高清理光刻板表面的便捷性。
搜索关键词: 一种 半导体 刻板 清洗 装置
【主权项】:
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