[实用新型]一种半导体光刻板清洗装置有效
申请号: | 202021006667.X | 申请日: | 2020-06-04 |
公开(公告)号: | CN212597355U | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 韩波 | 申请(专利权)人: | 汉斯自动化科技(江苏)有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;B08B13/00 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 王勇 |
地址: | 221600 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 刻板 清洗 装置 | ||
本实用新型适用于光刻板清洗技术领域,一种半导体光刻板清洗装置,其包括机壳;机壳顶端的中部设置有电机,电机的电机轴贯穿于机壳的内部,电机的电机轴末端固定有主动齿,机壳内部的顶端设置有轴承,轴承均匀设置有多组,轴承的底端安装有转杆,转杆的底端贯穿于机壳的底部,转杆的底端设置有清理布刷,转杆的外壁设置有从动齿;机壳底端的背侧固定有输液板,输液板的表面开设有出水孔,机壳内部的右侧设置有水泵,水泵的进水端连接有进水管,水泵的出水端连接有出水管。本实用新型机壳底部设置有出水机构和清理机构,可以对附着在光刻板杂质进行快速的清理,且清理机构采用电力驱动,起到快速清理的效果,提高清理光刻板表面的便捷性。
技术领域
本实用新型适用于光刻板清洗技术领域,尤其涉及一种半导体光刻板清洗装置。
背景技术
目前,光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺,如果光刻板不洁净,存在污染颗粒,这些颗粒就会被复制到硅片表面的光刻胶上,造成器件性能的下降。
然而,光刻板在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物,这些污染物的存在直接影响到光刻的效果,如果不达到高效的清理,大大降低生产的质量和设备使用的寿命,为了解决上述中存在的问题,因此,我们提出一种半导体光刻板清洗装置。
实用新型内容
本实用新型提出的一种半导体光刻板清洗装置,机壳底部设置有出水机构和清理机构,可以对附着在光刻板杂质进行快速的清理,且清理机构采用电力驱动,起到快速清理的效果,提高清理光刻板表面的便捷性,解决了背景技术中提出的问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种半导体光刻板清洗装置,包括机壳;
机壳顶端的中部设置有电机,电机的电机轴贯穿于机壳的内部,电机的电机轴末端固定有主动齿,机壳内部的顶端设置有轴承,轴承均匀设置有多组,轴承的底端安装有转杆,转杆的底端贯穿于机壳的底部,转杆的底端设置有清理布刷,转杆的外壁设置有从动齿;
机壳底端的背侧固定有输液板,输液板的表面开设有出水孔,机壳内部的右侧设置有水泵,水泵的进水端连接有进水管,水泵的出水端连接有出水管,出水管的末端与输液板的侧壁相连通,机壳顶端的两侧均固定有把手。
优选的,主动齿的外壁套接有链条,主动齿通过链条与从动齿相连接。
优选的,轴承的外壁壁固定于机壳内部的顶端,转杆的顶部与轴承的转动壁固定连接。
优选的,输液板的内部呈中空状。
优选的,机壳的左侧设置有开关,开关与电机为电性连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型通过机壳底部设置有出水机构和清理机构,可以对附着在光刻板杂质进行快速的清理,且清理机构采用电力驱动,起到快速清理的效果,提高清理光刻板表面的便捷性。
2、本实用新型通过主动齿由链条驱动多组从动齿旋转,使电机可以同时驱动多组转杆旋转,带动清理布刷同时转动,节省能源的消耗,提高使用的效率。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种半导体光刻板清洗装置的整体结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种半导体光刻板清洗装置的机壳底部结构示意图。
图中:1、机壳;2、电机;3、主动齿;4、轴承;5、转杆;6、清理布刷;7、开关;8、从动齿;9、链条;10、把手;11、输液板;12、出水孔;13、水泵;14、进水管;15、出水管。
具体实施方式
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