[实用新型]一种半导体光刻板清洗装置

权利要求书

1.一种半导体光刻板清洗装置，其特征在于，包括机壳(1)；

机壳(1)顶端的中部设置有电机(2)，电机(2)的电机轴贯穿于机壳(1)的内部，电机(2)的电机轴末端固定有主动齿(3)，机壳(1)内部的顶端设置有轴承(4)，轴承(4)均匀设置有多组，轴承(4)的底端安装有转杆(5)，转杆(5)的底端贯穿于机壳(1)的底部，转杆(5)的底端设置有清理布刷(6)，转杆(5)的外壁设置有从动齿(8)；

机壳(1)底端的背侧固定有输液板(11)，输液板(11)的表面开设有出水孔(12)，机壳(1)内部的右侧设置有水泵(13)，水泵(13)的进水端连接有进水管(14)，水泵(13)的出水端连接有出水管(15)，出水管(15)的末端与输液板(11)的侧壁相连通，机壳(1)顶端的两侧均固定有把手(10)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板清洗装置，其特征在于，主动齿(3)的外壁套接有链条(9)，主动齿(3)通过链条(9)与从动齿(8)相连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板清洗装置，其特征在于，轴承(4)的外壁壁固定于机壳(1)内部的顶端，转杆(5)的顶部与轴承(4)的转动壁固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板清洗装置，其特征在于，输液板(11)的内部呈中空状。

5.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板清洗装置，其特征在于，机壳(1)的左侧设置有开关(7)，开关(7)与电机(2)为电性连接。