[实用新型]一种适用于CVD合金零件制备的散热结构有效
| 申请号: | 202020891489.7 | 申请日: | 2020-05-25 |
| 公开(公告)号: | CN212476879U | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
| 发明(设计)人: | 朱双林;李春敏;马国忠;胡人文;王恩强;黄道平;沈伟 | 申请(专利权)人: | 苏州索科特新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域,尤其涉及一种适用于CVD合金零件制备的散热结构,解决现有技术中存在冷却效果差、生产效率低的缺点,包括沉积台和顶板,所述沉积台的顶部固定连接有散热台,所述散热台的顶部放置有样品,且沉积台的一侧固定设置有冷却水箱,所述沉积台和散热台的内部共同开设有内槽,所述内槽的内部滑动设置有冷却件,通过伺服电机、驱动齿轮、从动齿轮、螺纹杆、升降块等结构的设置,在冷却前冷却水箱就可持续地将冷却液送入至冷却件的内部进行预冷,使冷却件始终处于低温状态,冷却时通过升降机构将冷却件送至样品底部,能够及时地对样品进行降温,大大地提高了生产效率,具有较强的实用性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 适用于 cvd 合金 零件 制备 散热 结构 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





