[实用新型]高精度分布式水冷温控装置有效
| 申请号： | 202020718641.1 | 申请日： | 2020-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN211786815U | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 秦硕;梁良;杨志华 | 申请（专利权）人： | 长沙航空职业技术学院 |
| 主分类号： | G05D23/24 | 分类号： | G05D23/24;G05D23/19;G05B11/42;G05B13/04 |
| 代理公司： | 长沙智勤知识产权代理事务所(普通合伙) 43254 | 代理人： | 曾芳琴 |
| 地址： | 410124 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了高精度分布式水冷温控装置，包括温控水箱、第一水管、第二水管、出水泵、分水集水箱和多个冷却组件；冷却组件包括第三水管、第四水管和冷却水套；温控水箱内设置有空压机和加热器；第一水管连通于温控水箱和分水集水箱之间；第二水管连通于温控水箱和分水集水箱之间；本实用新型提出的高精度分布式水冷温控装置保证了各冷却水套对于光刻设备的降温均匀性和一致性；同时，通过调节加热器和空压机，能够对冷却水的温度实现精准控制调节，也保证了光刻机对冷却降温时的温度的准确性的要求；此外，由于采用循环水冷的方式，相比传统风冷，更能满足光刻机对冷却降温方式的洁净度和平稳性的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 高精度 分布式 水冷 温控 装置 | ||
【主权项】：
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