[实用新型]高精度分布式水冷温控装置

说明书

本实用新型公开了高精度分布式水冷温控装置，包括温控水箱、第一水管、第二水管、出水泵、分水集水箱和多个冷却组件；冷却组件包括第三水管、第四水管和冷却水套；温控水箱内设置有空压机和加热器；第一水管连通于温控水箱和分水集水箱之间；第二水管连通于温控水箱和分水集水箱之间；本实用新型提出的高精度分布式水冷温控装置保证了各冷却水套对于光刻设备的降温均匀性和一致性；同时，通过调节加热器和空压机，能够对冷却水的温度实现精准控制调节，也保证了光刻机对冷却降温时的温度的准确性的要求；此外，由于采用循环水冷的方式，相比传统风冷，更能满足光刻机对冷却降温方式的洁净度和平稳性的要求。

技术领域

本实用新型涉及测控技术领域，特别涉及一种高精度分布式水冷温控装置。

背景技术

在半导体光刻领域，光刻设备对温度的均匀性和稳定性要求非常高；随着光刻设备的曝光分辨率的提高，采用传统的温控装置(如电热丝加热、风扇制冷)的方法难以满足光刻设备对温度均匀性、准确性的要求；且风冷还会给光刻设备带来不同一定的震动和灰尘污染，不满足光刻设备对洁净度和平稳性要求。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种高精度分布式水冷温控装置，旨在解决现有的温控装置难以满足光刻设备对温度均匀性、温度准确性以及洁净度和平稳性的要求的问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的技术方案是：

一种高精度分布式水冷温控装置，包括温控水箱、第一水管、第二水管、出水泵、分水集水箱和多个冷却组件；所述冷却组件包括第三水管、第四水管和冷却水套；

所述温控水箱内设置有空压机和加热器；所述第一水管连通于所述温控水箱和所述分水集水箱之间；所述第二水管连通于所述温控水箱和所述分水集水箱之间；所述第一水管和所述温控水箱之间还连通设置有出水泵；

所述冷却水套包括冷却管和冷却套，所述冷却管和所述冷却套均由金属材质制成；所述冷却管与所述冷却套贴合设置；所述冷却管开设有出水口和进水口；所述进水口通过所述第三水管连通于所述分水集水箱；所述出水口通过所述第四水管连通于所述分水集水箱；所述冷却套贴合于待冷却对象的外表面。

优选的，所述冷却套呈圆管状；所述冷却管均匀缠绕于所述冷却套的外壁；所述冷却套贴合套设于待冷却对象的外表面。

优选的，所述冷却套呈碗状；所述冷却管均匀缠绕于所述冷却套的外壁；所述冷却套贴合套设于待冷却对象的外表面。

优选的，所述冷却套呈平板状；所述冷却管呈蛇形均匀嵌设于所述冷却套内部；所述冷却套贴合于待冷却对象的外表面。

优选的，还包括控制计算机、显示器和设置于待冷却对象的温度传感器；所述控制计算机包括彼此通信连接处理器和RS232通讯接口；所述温度传感器的信号输出端与所述RS232通讯接口的信号输入端连接；所述RS232通讯接口信号的输出端和所述处理器的信号输入端连接；所述处理器的信号输出端和所述显示器的信号输入端连接。

优选的，还包括流量采集组件；所述流量采集组件包括流量传感器和流量采集模块；所述流量传感器设置于所述第三水管或所述第四水管；所述流量传感器的信号输出端与所述流量采集模块的信号输入端连接；所述流量采集模块的信号输出端与所述处理器的信号输入端连接。

优选的，所述流量采集模块包括依次连接的射极跟随电路、后置滤波电路和模数转换芯片；所述射极跟随电路包括依次连接的前置滤波电路、限幅电路和第一运算放大器；所述流量传感器的信号输出端连接于所述射极跟随电路的信号输入端；所述射极跟随电路的信号输出端连接于所述后置滤波电路的信号输入端；所述后置滤波电路的信号输出端连接于所述模数转换芯片的CH0-CH7通道；所述模数转换芯片的信号输出端连接于所述处理器的信号输入端。