[实用新型]一种用于镀膜的公自转镀膜装置有效
申请号: | 202020699553.1 | 申请日: | 2020-04-30 |
公开(公告)号: | CN212199404U | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 余海春;戴晓东;陈韶华;卜钦钦 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/54 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人: | 周宇凡 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及薄膜制备技术领域,尤其是一种用于镀膜的公自转镀膜装置,包括真空腔体、大转架、小转架,大转架和小转架均设置在真空腔体的内部,其中小转架安装在大转架上且两者之间构成转动配合;大转架连接有公转驱动装置,公转驱动装置设置在真空腔体的外部,公转驱动装置连接驱动大转架在真空腔体内公转,小转架连接有自转驱动装置,自转驱动装置设置在真空腔体的内部,自转驱动装置连接驱动小转架在大转架上的自转;大转架和小转架为圆筒式转架。本实用新型的优点是:通过调节公转与自转的转速比例,可以改变沉积时间的分布,改善薄膜厚度的均匀性,具有制得的薄膜均匀性更好、溅射效率高等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 镀膜 自转 装置 | ||
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