[实用新型]一种用于镀膜的公自转镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202020699553.1 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN212199404U 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 余海春;戴晓东;陈韶华;卜钦钦 申请(专利权)人: 光驰科技(上海)有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/54
代理公司: 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 代理人: 周宇凡
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及薄膜制备技术领域,尤其是一种用于镀膜的公自转镀膜装置,包括真空腔体、大转架、小转架,大转架和小转架均设置在真空腔体的内部,其中小转架安装在大转架上且两者之间构成转动配合;大转架连接有公转驱动装置,公转驱动装置设置在真空腔体的外部,公转驱动装置连接驱动大转架在真空腔体内公转,小转架连接有自转驱动装置,自转驱动装置设置在真空腔体的内部,自转驱动装置连接驱动小转架在大转架上的自转;大转架和小转架为圆筒式转架。本实用新型的优点是:通过调节公转与自转的转速比例,可以改变沉积时间的分布,改善薄膜厚度的均匀性,具有制得的薄膜均匀性更好、溅射效率高等优点。
搜索关键词: 一种 用于 镀膜 自转 装置
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