[实用新型]一种用于镀膜的公自转镀膜装置

说明书

本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种用于镀膜的公自转镀膜装置，包括真空腔体、大转架、小转架，大转架和小转架均设置在真空腔体的内部，其中小转架安装在大转架上且两者之间构成转动配合；大转架连接有公转驱动装置，公转驱动装置设置在真空腔体的外部，公转驱动装置连接驱动大转架在真空腔体内公转，小转架连接有自转驱动装置，自转驱动装置设置在真空腔体的内部，自转驱动装置连接驱动小转架在大转架上的自转；大转架和小转架为圆筒式转架。本实用新型的优点是：通过调节公转与自转的转速比例,可以改变沉积时间的分布，改善薄膜厚度的均匀性，具有制得的薄膜均匀性更好、溅射效率高等优点。

技术领域

本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种用于镀膜的公自转镀膜装置。

背景技术

制备光学薄膜常用的方法有两种，一种是溅射法，一种是蒸发法。在溅射法中，通常是利用离子轰击靶材表面，靶材的原子被轰击出来并沉积在基板表面成膜。在蒸发法中，通常是利用电子束或热蒸发的方式使基板表面沉积光学薄膜。

常规成膜装置通过基板托盘（工件盘）公自转结构提高基板表面沉积薄膜的均匀性。基板表面沉积薄膜的均匀性及精度与基板托盘（工件盘）的公自转转速比例，基板托盘公自转转速息息相关。且不同镀膜材料获得高均匀性薄膜所需的公自转转速比例不尽相同。而随着光学薄膜应用的不断拓展，越来越多的产品上均通过镀膜来提高其使用性能，但对于曲面结构复杂的产品而言，目前并未有较好的设备来实现其表面的镀膜。

发明内容

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种用于镀膜的公自转镀膜装置，通过设置大转架及小转架实现公转和自转，从而可改变承载在小转架上的镀膜产品所受沉积时间的分布，从而改善薄膜厚度的均匀性。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种用于镀膜的公自转镀膜装置，其特征在于：所述装置包括真空腔体、大转架、小转架，所述大转架和所述小转架均设置在所述真空腔体的内部，其中所述小转架安装在所述大转架上且两者之间构成转动配合；所述大转架连接有公转驱动装置，所述公转驱动装置设置在所述真空腔体的外部，所述公转驱动装置连接驱动所述大转架在所述真空腔体内公转，所述小转架连接有自转驱动装置，所述自转驱动装置设置在所述真空腔体的内部，所述自转驱动装置连接驱动所述小转架在所述大转架上的自转；所述大转架和所述小转架为圆筒式转架。

所述小转架与所述大转架之间的转动配合指的是，所述小转架的自转转轴安装在所述大转架上，且所述自转转轴与所述大转架的架体之间构成轴孔配合，使所述自转转轴可在所述自转驱动装置的连接驱动下转动。

所述公转驱动装置包括电机、同步带轮、磁流体，所述电机通过所述同步带轮连接所述磁流体，所述磁流体与所述大转架相连接固定。

所述自转驱动装置为真空电机，所述真空电机固定安装在所述大转架上。

所述真空电机通过电极导入法兰连接有电机滑环，所述电机滑环为所述真空电机的动力部件。

所述真空电机设置有冷却水管路。

沿所述大转架的圆周均匀间隔布置若干所述小转架。

本实用新型的优点是：通过调节公转与自转的转速比例,可以改变沉积时间的分布，改善薄膜厚度的均匀性，具有制得的薄膜均匀性更好、溅射效率高等优点；适用于曲面结构复杂的产品镀膜，且该公自转系统可以分别控制公转与自转的速度，在镀膜工艺设计设计上灵活性更强；运行稳定性更加，使用寿命更长。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的立体结构示意图。

具体实施方式