[实用新型]纳米真空镀膜仪

摘要

本实用新型公开一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚位于真空镀膜室底部，真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括装载盘和固定在装载盘两侧的支杆，支杆外端可移动得设置在真空镀膜室的内壁上，装载盘上表面固定有电磁吸附装置，真空镀膜室顶部向下固定有直杆，直杆通过万向旋转连接头与装载盘固定。与现有技术相比，本实用新型的优点在于：在万向旋转接头的作用下，装载盘与水平面的角度可以调节，使得镀膜的面可以调节，使得镀膜更加均匀，且表面都可以镀膜；滑块可以在直线滑轨上上下移动，从而带动支杆的移动，调节装载盘的倾斜角度，实现镀膜范围可控制。